设备名称Equipment Name

　　链式酸抛光清洗设备Inline Acid Polishing Equipment

　　设备型号Equipment Model

　　SC-LSP4500/ SC-LSP8000

　　设备用途Equipment Application

　　对单、多晶硅片进行刻蚀/抛光、清洗、干燥。

　　Etching/polishing, cleaning and drying of mono/multi crystalline solar cells.

　　工艺流程Process Flow

　　正面保护→刻蚀/抛光→碱洗→酸洗→烘干

　　Water layer protection→Etching/Polishing→Alkaline cleaning→Acid Cleaning→Drying

　　技术特点 Features

　　1. 高产能：5道，4500片/小时，10道，8000片/小时。

　　High Throughput:5-lane 4500pcs/h; 10-lane 8000pcs/h.

　　2. 高均匀性，超长药液寿命。

　　Excellent Uniformity, long bath life time.

　　3. 支持多种添加剂或混合添加剂技术。

　　Various additives or mixed additives technology.

　　4. 支持最薄120μm硅片。

　　Wafer thickness handling capability upto 120μm.

　　5. 快速换液，在线换液。

　　Quick inline bath change.

　　6. ⽀持背面抛光工艺，超低药耗。

　　Suitable for rear side polishing and with low chemical consumption.

　　7. ⽀持MES，选配在线称重检测。

　　Suitable with MES ; Inline weight testing is optional.

　　8. 兼容酸抛光功能。

　　Compatible with acid polish function.

　　设备参数 Parameters